La chambre de pulvérisation cathodique, directement reliée à une des deux enceinte de PLD, permet la réalisation de dépôts successifs sans remise à l’air intermédiaire. La pulvérisation, assemblée par l’équipe de la plateforme, a été réalisée sur mesure pour s’intégrer parfaitement sur le bâti de PLD. Elle est équipée d’un magnétron DC de 2″ permettant entre autres le dépôt des matériaux métalliques (platine, cuivre, etc, …) qui combiné aux oxydes fonctionnels élaborées par l’équipe « oxydes en couches minces » peuvent permettre des études dans le domaine de la spintronique.
La plateforme a également amélioré le chauffage des échantillons de l’ablation laser. En plus de l’ancien système de chauffage résistif, un nouveau système de chauffage laser a été installé. Ce nouveau chauffage consiste à chauffer l’arrière du porte échantillon à l’aide d’un laser (classe 4) ayant une longueur d’onde de 980 nm. La température est également mesurée à l’arrière à l’aide d’un pyromètre. Ce nouveau dispositif permet d’atteindre des températures plus élevées (au moins 1100°C comparé à 900°C pour le chauffage résistif). Les montées et descentes en température peuvent être plus rapides et des recuits sous atmosphère d’oxygène peuvent être effectués car les problèmes d’inertie thermique et d’oxydation des contacts du chauffage résistif sont supprimés.
Si vous souhaitez de plus amples informations sur ces deux équipements, financés conjointement par le PEPR SPIN, le CNRS, l’IPCMS et l’équipe « Oxydes en couches minces », vous pouvez contacter l’un des membres de la plateforme.
